(19)中华 人民共和国 国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202111241110.3 (22)申请日 2021.10.25 (71)申请人 中国科学院微电子 研究所 地址 100029 北京市朝阳区北土城西路3号 (72)发明人 景旭宇　韦亚一　董立松　 (74)专利代理 机构 北京知迪知识产权代理有限 公司 11628 代理人 王胜利 (51)Int.Cl. G06F 30/27(2020.01) G06F 16/583(2019.01) G06N 20/00(2019.01) G06V 30/422(2022.01) G06V 30/148(2022.01) G06V 30/186(2022.01) (54)发明名称 一种极紫外光掩模衍射近场计算模型的建 立方法、 装置及电子设备 (57)摘要 本发明公开一种极紫外光掩模衍射近场计 算模型的建立方法、 装置及电子设备， 涉及微电 子技术领域。 所述极紫外光掩模衍射近场计算模 型的建立方法， 包括： 获取预设个数的掩模版图 对应的衍射矩阵数据库； 基于所述掩模版图对应 的衍射矩 阵数据库对每个所述掩模版图进行切 割分类处理， 得到多个种类的特征图形； 基于每 个种类的所述特征图形， 确定相应具备掩模衍射 近场特性的卷积核； 根据所述卷积核确定测试版 图对应的近场数据， 完成所述极紫外光掩模衍射 近场计算模 型的建立， 此模型针对极紫外光刻掩 模衍射近场训练出一套有效的卷积核， 并且可以 适用于任何的入射光角度， 同时还能保持与机器 学习方法同一量级的计算精度但是耗费时间成 本大幅度降低。 权利要求书2页 说明书21页 附图9页 CN 114021435 A 2022.02.08 CN 114021435 A 1.一种极紫外光掩 模衍射近场计算模型的建立方法， 其特 征在于， 所述方法包括： 获取预设个数的掩模版图对应的衍射矩阵数据库， 其中， 每个所述掩模版图对应有至 少一个衍 射矩阵； 基于所述掩模版图对应的衍射矩阵数据库对每个所述掩模版图进行切割分类处理， 得 到多个种类的特 征图形； 基于每个种类的所述特 征图形， 确定相应具 备掩模衍射近场特性的卷积核； 根据所述卷积核确定测试版图对应的近场数据， 完成所述极紫外光掩模衍射近场计算 模型的建立。 2.根据权利要求1所述的方法， 其特征在于， 所述基于所述掩模版图对应的衍射矩阵数 据库对每 个所述掩 模版图进行切割分类处 理， 得到多个种类的特 征图形， 包括： 基于每个所述掩模板图对应的衍射矩阵将所述掩模版图的版图矩阵向外延展第一预 设个数像素点， 得到相应的扩大化版图矩阵； 基于每个所述掩模板图对应的衍射矩阵将所述掩模板图的版图矩阵向内缩小第二预 设个数像素点， 得到相应的缩小化版图矩阵； 基于所述扩大化版图矩阵和所述缩小化版图矩阵确定版图边 缘图形矩阵； 对所述版图边缘图形矩阵按照多个外侧边缘特征进行分割， 得到所述多个种类的特征 图形。 3.根据权利要求2所述的方法， 其特征在于， 所述对所述版图边缘图形矩阵按照多个外 侧边缘特征进行分割， 得到所述多个种类的特 征图形， 包括： 对所述版图边缘图形矩阵按照多个外侧边缘特征进行分割， 得到具有相应边缘特征的 多个特征二维矩阵； 依据多个所述外侧边缘特征的不同特征点对所述多个特征二维矩阵进行二 次分类， 得 到所述多个种类的特 征图形。 4.根据权利要求1所述的方法， 其特征在于， 所述衍射矩阵包括XX衍射矩阵、 YY衍射矩 阵、 XY衍射矩阵和YX衍射矩阵； 所述卷积核包括衍射近场实部卷积核和衍射近场虚部卷积 核； 所述基于每 个种类的所述特 征图形， 确定相应具 备掩模衍射近场特性的卷积核， 包括： 基于每个种类的所述特征图形， 通过提取每个种类的所述特征图形中像素点， 确定每 个种类的所述特 征图形的像素点 坐标集合； 基于所述像素点坐标集合确定所述每个种类的所述特征图形的像素点坐标对应在所 述XX衍射矩阵、 所述Y Y衍射矩阵、 所述XY衍 射矩阵和所述YX衍 射矩阵的近场数据； 基于所述XX衍射矩阵的衍射特性、 所述YY衍射矩阵的衍射特性和中间缩小版图衍射特 性， 对所述XX衍射矩阵的近场数据和所述YY衍射矩阵的近场数据进行拟合， 确定具有所述 外侧边缘特征的第一数值个第一卷积核和第二数值个第二卷积核； 基于所述XY衍射矩阵的衍射特性、 所述YX衍射矩阵的衍射特性和中间缩小版图衍射特 性， 对所述XY衍射矩阵的近场数据和所述YX衍射矩阵的近场数据进行拟合， 确定具有所述 外侧边缘特征的第三数值个第三卷积核和第四数值个第四卷积核； 基于第一数值个所述第一卷积核、 第二数值个所述第二卷积核、 第三数值个所述第三 卷积核和第四数值个所述第四卷积核确定衍 射近场实部卷积核和衍 射近场虚部卷积核。 5.根据权利要求1 ‑4任一项所述的方法， 其特征在于， 所述卷积核包括衍射近场实部卷权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 114021435 A 2积核和衍射近场虚部卷积核； 所述根据所述卷积核确定测试版图对应的近场数据， 完成所 述极紫外光掩 模衍射近场计算模型的建立， 包括： 获取所述测试 版图对应的测试衍 射矩阵； 基于所述测试版图对应的测试衍射矩阵对所述测试版图进行切割分类处理， 得到各类 特征测试图形； 基于所述 衍射近场实部卷积核确定所述各类特 征测试图形对应的衍 射近场实部数据； 基于所述 衍射近场虚部卷积核确定所述各类特 征测试图形对应的衍 射近场虚部数据； 基于所述衍射近场实部数据和所述衍射近场虚部数据确定所述近场数据， 完成所述极 紫外光掩 模衍射近场计算模型的建立。 6.根据权利要求1 ‑4任一项所述的方法， 其特征在于， 所述获取预设个数的掩模版图对 应的衍射矩阵数据库， 其中， 每 个所述掩 模版图对应有至少一个衍 射矩阵， 包括： 基于时域有限差分的电磁计算方法确定预设个数的所述掩模版图对应的衍射矩阵数 据库， 其中， 每 个所述掩 模版图对应有至少一个衍 射矩阵。 7.一种极紫外光掩 模衍射近场计算模型的建立装置， 其特 征在于， 所述装置包括： 获取模块， 用于获取预设个数的掩模版图对应的衍射矩阵数据库， 其中， 每个所述掩模 版图对应有至少一个衍 射矩阵数据库， 其中， 每 个所述掩 模版图对应有至少一个衍 射矩阵； 切割模块， 用于基于所述掩模版图对应的衍射矩阵数据库对每个所述掩模版图进行切 割分类处 理， 得到多个种类的特 征图形； 确定模块， 用于基于每个种类的所述特征图形， 确定相应具备掩模衍射近场特性的卷 积核； 模型建立模块， 用于根据所述卷积核确定测试版图对应的近场数据， 完成所述极紫外 光掩模衍射近场计算模型的建立。 8.根据权利要求7 所述的装置， 其特 征在于， 所述切割模块包括： 向外延展子模块， 用于基于每个所述掩模板图对应的衍射矩阵将所述掩模版图的版图 矩阵向外延展第一预设个数像素点， 得到相应的扩大化版图矩阵； 向内缩小子模块， 用于基于每个所述掩模板图对应的衍射矩阵将所述掩模板图的版图 矩阵向内缩小第二预设个数像素点， 得到相应的缩小化版图矩阵； 第一确定子模块， 用于基于所述扩大化版图矩阵和所述缩小化版图矩阵确定版图边缘 图形矩阵； 分割子模块， 用于对所述版图边缘图形矩阵按照多个外侧边缘特征进行分割， 得到所 述多个种类的特 征图形。 9.根据权利要求8所述的装置， 其特 征在于， 所述分割子模块包括： 分割单元， 用于对所述版图边缘图形矩阵按照多个外侧边缘特征进行分割， 得到具有 相应边缘特征的多个特 征二维矩阵； 分类单元， 用于依据多个所述外侧边缘特征的不同特征点对所述多个特征二维矩阵进 行二次分类， 得到所述多个种类的特 征图形。 10.一种电子设备， 其特征在于， 包括： 一个或多个处理器； 和其上存储有指令的一个或 多个机器可读介质， 当由所述一个或多个处理器执行时， 使得执行权利要求1至6任一所述 的极紫外光掩 模衍射近场计算模型的建立方法。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 114021435 A 3