(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210655186.9 (22)申请日 2022.06.10 (71)申请人 林荔 地址 351100 福建省莆田市荔城区镇海街 道海丰中街519号 (72)发明人 林荔　 (51)Int.Cl. B08B 3/04(2006.01) B08B 3/12(2006.01) B08B 13/00(2006.01) (54)发明名称 一种半导体发光器件用清洗 机 (57)摘要 本发明公开了一种半导体发光器件用清洗 机， 其结构包括主体、 控制面板、 排污口， 主体的 前端设有控制面板， 主体包括清洗槽、 超声波发 生器、 放置装置， 放置装置包括放置框、 隔槽、 顶 盖、 支撑装置、 排污槽、 夹紧装置， 支撑装置包括 支撑体、 支 撑座、 支撑槽、 侧流槽、 缓冲装置、 下流 槽， 缓冲装置包括缓冲板、 流动槽、 支撑片、 缓冲 橡胶， 缓冲橡胶包括橡胶块、 形变槽、 支撑条、 摩 擦槽， 本发 明利用将半导体屏幕垂直放置在隔槽 中， 再利用支撑装置对其进行支撑， 然后利用夹 紧装置的侧面进行支撑， 放置半导体屏幕进行清 洗的时候与隔槽的侧端面碰撞， 使得半导体端面 的锡膏脱落之后， 能够直接往排污槽集中排走， 避免半导体屏幕清洗之后还残留有锡膏。 权利要求书2页 说明书5页 附图5页 CN 115041453 A 2022.09.13 CN 115041453 A 1.一种半导体发光器件用清洗机， 其结构包括主体(1)、 控制面板(2)、 排污口(3)， 所述 主体(1)的前端设有控制面板(2)， 所述 排污口(3)位于主体(1)的右侧端面， 其特 征在于： 所述主体(1)包括清洗槽(11)、 超声波发生器(12)、 放置装置(13)， 所述清洗槽(11)设 置在主体(1)的内部正中间， 所述超声波发生器(12)位于清洗槽(11)的内部侧端， 所述放置 装置(13)安装在清洗 槽(11)的内部正中间。 2.根据权利要求1所述的一种半导体发光器件用清洗机， 其特征在于： 所述放置装置 (13)包括放置框(131)、 隔槽(132)、 顶盖(133)、 支撑装置(134)、 排污槽(135)、 夹紧装置 (136)， 所述放置框(131)设置在清洗槽(11)的内部上端， 所述隔槽(132)设有八个， 且横向 排列于放置框(131)的内部， 所述顶盖(133)与放置框(131)活动卡合， 所述支撑装置(134) 安装在隔槽(132)的内部底端， 所述排污槽(135)位于支撑装置(134)的下方， 所述夹紧装置 (136)以两个为 一组， 设置在隔槽(132)的两端。 3.根据权利要求2所述的一种半导体发光器件用清洗机， 其特征在于： 所述支撑装置 (134)包括支撑体(a1)、 支 撑座(a2)、 支 撑槽(a3)、 侧流槽(a4)、 缓冲装置(a5)、 下流槽(a6)， 所述支撑体(a1)设置在隔槽(132)的内部底端， 且支撑体(a1)的内部为剖空状， 所述支撑座 (a2)设置在支撑体(a1)的内部正中间， 所述支撑槽(a3)位于支撑座(a2)的上端， 所述侧流 槽(a4)位于支撑槽(a3)的两端， 所述缓冲装置(a5)设有六个， 且横向排列于支撑槽(a3)的 正中间， 所述下流槽(a6)贯 穿于支撑座(a2)的内部 。 4.根据权利要求3所述的一种半导体发光器件用清洗机， 其特征在于： 所述缓冲装置 (a5)包括缓冲板(a51)、 流动槽(a52)、 支撑片(a53)、 缓冲橡胶(a4)， 所述缓冲板(a51)嵌固 在支撑槽(a3)的上端面， 所述流动槽(a52)位于缓冲板(a51)的下端， 所述支撑片(a53)设有 四个， 且横向排列于流动槽(a52)的上下端面， 所述缓冲橡胶(a4)嵌固在缓冲板(a51)的顶 部端面。 5.根据权利要求4所述的一种半导体发光器件用清洗机， 其特征在于： 所述缓冲橡胶 (a4)包括橡胶块(b1)、 形变槽(b2)、 支撑条(b3)、 摩擦槽(b4)， 所述橡胶块(b1)嵌固在缓冲 板(a51)的上端面， 所述形变槽(b2)位于橡胶块(b1)的内部， 所述支撑条(b3)设有六个， 且 横线排列于形变槽(b2)的内部， 所述摩擦槽(b4)设有六个， 且横向排列于橡胶块(b1)的上 端面。 6.根据权利要求2所述的一种半导体发光器件用清洗机， 其特征在于： 所述夹紧装置 (136)包括夹紧块(c1)、 弹力片(c2)、 空槽(c3)、 复位条(c4)、 接触头(c5)， 所述夹 紧块(c1) 为八字状， 且嵌固在隔槽(132)的侧端面， 所述弹力片(c2)设置在夹紧块(c1)的内部， 所述 空槽(c3)位于夹紧块(c1)的内部上端， 所述复位条(c4)设有五个， 且横线排列于空槽(c3) 的内部， 所述接触头(c 5)嵌固在夹紧块(c1)的末端。 7.根据权利要求6所述的一种半导体发光器件用清洗机， 其特征在于： 所述接触头(c5) 包括接触块(c51)、 缓冲槽(c52)、 侧顶块(c53)、 侧展槽(c54)， 所述接触块(c51)嵌固在夹紧 块(c1)的末端， 所述 缓冲槽(c52)位于接触块(c51)的内部正中间， 所述侧顶块(c53)设有两 个， 且交错设置在缓冲槽(c52)的两侧端面， 所述侧展槽(c54)设有七个， 且环绕于接触块 (c51)的外端面进行排列。 8.根据权利要求7所述的一种半导体发光器件用清洗机， 其特征在于： 所述侧顶块 (c53)包括侧顶体(d1)、 内槽(d2)、 嵌固座(d3)， 所述侧顶体(d1)设置在缓冲槽(c52)的内权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 115041453 A 2部， 所述内槽(d2)位于侧顶体(d1)的内部， 所述嵌固座(d3)嵌固在侧顶体(d1)的顶部 。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 115041453 A 3