(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202211003287.4 (22)申请日 2022.08.22 (71)申请人 山东胜通光学材料科技有限公司 地址 257500 山东省东营市垦利经济开发 区园兴路169号 (72)发明人 杨彪　程凡宝　孙艳斌　李彬彬　 张玲　刘金伟　 (74)专利代理 机构 东营辛丁知联专利代理事务 所(普通合伙) 37334 专利代理师 孙宏磊 (51)Int.Cl. C08J 7/04(2020.01) C08L 67/02(2006.01) C08L 75/04(2006.01) C08L 75/02(2006.01) C08K 3/36(2006.01)C08K 3/22(2006.01) C08K 3/26(2006.01) C08K 3/34(2006.01) C08K 5/12(2006.01) C08J 5/18(2006.01) C09D 175/04(2006.01) C09D 5/20(2006.01) C09D 7/63(2018.01) B29D 7/01(2006.01) B32B 27/36(2006.01) B32B 27/08(2006.01) B32B 27/06(2006.01) B32B 27/42(2006.01) B32B 27/40(2006.01) B05D 7/24(2006.01) B05D 3/02(2006.01) B05D 7/04(2006.01) (54)发明名称 一种哑光聚酯离型膜用基膜及其制备方法 (57)摘要 本发明涉及涉及聚酯光学膜 技术领域， 具体 为一种哑光聚酯离型膜用基膜及其制备方法。 所 述基膜在结构上呈三层， 其原材料及配比包括 80‑90重量份的PET树脂、 5 ‑10重量份的无机纳米 材料， 3‑5重量份的增塑剂。 其制备方法包括： 所 述基膜三层结构分别将原材料按不同配比通过 三路挤出机来完成， 三路挤出机挤出的熔体分别 经过滤、 控温后进入三层共挤流道组成的共挤模 头汇集共挤， 形成聚酯铸片， 经过90 ‑120℃的拉 伸， 形成的雏形基膜Ａ 静电吸附后进行特殊涂布 液和特定工艺条件进行涂布。 经处理后的涂布工 艺使涂层耐水性好、 附着力强、 流平性好、 光泽度 好、 具有高抗张强度和撕裂强度等特性， 产品具 有高雾度， 低光泽度， 且分散性好， 哑光效果显 著。 权利要求书2页 说明书7页 附图2页 CN 115246948 A 2022.10.28 CN 115246948 A 1.一种哑光 聚酯离型膜用基膜， 其特征在于： 所述基膜在结构上呈三层， 其原材料及配 比包括80 ‑90重量份的PET树脂、 5 ‑10重量份的无机纳米材 料， 3‑5重量份的增塑剂。 2.根据权利要求1所述的哑光 聚酯离型膜用基膜， 其特征在于： 所述树脂材料包括聚对 苯二甲酸乙二醇酯、 纯聚酯消光树脂、 聚甲基脲树脂、 热塑性聚氨酯弹性体、 聚对苯二甲酸 丁二醇酯中的一种或几种， 树脂材料分子量介 于16000‑20000之间， 密度1.40 ‑1.75g/cm3之 间； 所述无机纳米材料包括二氧化硅、 二氧化钛、 碳酸钙、 三氧化二铝、 有机硅微球、 蒙脱土 中的一种或几种； 所述的增塑剂为邻苯二甲酸二辛酯、 邻苯二甲酸二丁酯、 乙二酸二辛脂、 磷酸三辛酯中的一种或几种。 3.根据权利要求2所述的哑光 聚酯离型膜用基膜， 其特征在于： 所述纯聚酯消光树脂挥 发份≤1％  、 粘度400 ‑600dl/g； 所述 聚甲基脲树脂热分解温度＞220℃、 密度1.47 ‑1.52g/ cm； 所述热塑性聚氨酯弹性体相对密度1.10 ‑1.25g/cm。 4.根据权利要求1 ‑3任一所述的 哑光聚酯离型膜用基膜， 其制备 方法包括： 所述基膜三层结构分别将原材料按不同配比通过三路挤出机来完成， 即： 第一挤出机 的原材料混合后进入第一挤出机挤出， 挤出压力2 ‑8MPa， 工作温度 270‑290℃， 熔体厚度10 ‑ 40um； 第二挤出机的原材料混合后进入第二挤出机， 挤出压力5 ‑10MPa,工作温度280 ‑300 ℃， 熔体厚度 20‑50um； 第三挤出机的原材料混合后进入第三挤出机， 挤出压力3 ‑9MPa， 工作 温度270‑290℃， 熔体厚度10 ‑40um； 三路挤出机挤出的熔体 分别经过滤精度为20 ‑30um过滤 后， 依次进入第一流道、 第二流道和第三流道， 流道温度分别为255℃ ‑265℃； 三个流道中的 熔体最终进入三层共挤流道组成的共挤模头汇 集共挤， 挤出压力设定为 1‑9MPa， 模唇5温度 为265℃， 熔体在 模唇5处流下贴附在20 ‑40℃的冷鼓上形成聚酯铸片， 聚酯铸片的宽度紧缩 量为0.5‑1％； 将聚酯铸片经过90 ‑120℃的拉伸， 控制拉伸倍数为3.0 ‑4.5， 形成的雏形基膜 Ａ静电吸附后进行涂布。 5.根据权利要求4所述的哑光聚酯离型膜用基膜的制备方法， 其特征在于所述涂布使 用涂布液包括如下重量份的原料： 有机硅改性聚氨酯树脂40 ‑50， 硅烷偶联剂30 ‑40， 异丙醇 20‑30， 有机硅流平剂15 ‑25， 钛酸酯偶联剂10 ‑20， 有机硅微球8‑12。 6.根据权利要求5所述的哑光聚酯离型膜用基膜的制备方法， 其特征在于所述涂布液 制备方法： 将有机硅改性聚氨酯树脂注入3wt％～20wt％水溶液罐中， 搅拌为混合溶液； 加 入硅烷偶联剂进行搅拌， 使溶液的pH值8 ‑9， 静置10 ‑20分钟加入流平剂， 搅拌并使溶液的PH 值8‑9， 静置6‑10分钟后加入异丙醇， 再进行搅拌10 ‑20分钟， 加入钛酸酯偶联剂、 有机硅微 球， 得到一种高附着力的高分子 涂布液。 7.根据权利要求4所述的哑光聚酯离型膜用基膜的制备方法， 其特征在于所述涂布是 在包括导辊、 牵引辊、 压辊、 定量滚、 涂布辊和主控系统的涂布机进行， 其中， 将拉伸形成的 雏形基膜静电吸附后的基膜Ｂ在导辊的作用下进入涂布辊上方， 且基膜B与涂布辊相切， 定 量辊根据主控系统指 令把涂布液传递给涂布辊后瞬时涂布， 定量辊与涂布辊同时按逆时针 运转； 压辊又与涂布辊相切， 压辊对涂布的基膜Ｃ进 行压实、 平整、 拉 张， 基膜Ｃ进 行单面或 双面涂布， 涂层厚度为15 ‑30um。 8.根据权利要求7所述的哑光聚酯离型膜用基膜的制备方法， 其特征在于所述涂布后 的基膜Ｃ经牵引辊进入烘干， 烘干工序采用红外线干燥器对基膜Ｃ进行干燥； 涂布后的基 膜Ｃ经140 ‑170℃， 拉伸倍数3.0 ‑4.2的横拉伸后， 进行190 ‑220℃定型， 并消除静电、 收卷，权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 115246948 A 2制得厚度25 ‑120um的聚酯离型基膜。 9.根据权利要求4所述的哑光聚酯离型膜用基膜的制备方法， 其特征在于三路挤出机 的原料配比分别为： 在第一挤出机原材料配方为80重量份的树脂、 15重量份的无机纳米材 料、 5重量份增塑剂； 第二挤出机原材料配方为90重量份的树脂、 7重量份的无机纳米材料、 3 重量份的增塑剂； 第三挤出机原材料配方为85重量份的树脂、 10重量份的无机纳米材料、 5 重量份增塑剂。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 115246948 A 3