(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202211005235.0 (22)申请日 2022.08.22 (71)申请人 赫曼半导体技 术 （深圳） 有限公司 地址 518110 广东省深圳市龙华区观湖街 道观城社区大和村 603号1503 (72)发明人 吴昭宽　苏士豪　 (74)专利代理 机构 北京晟睿智杰知识产权代理 事务所 (特殊普通合伙) 11603 专利代理师 于淼 (51)Int.Cl. B08B 5/02(2006.01) B08B 13/00(2006.01) (54)发明名称 湿法制程基 板处理装置 (57)摘要 本发明实施例提供一种湿法制程基板处理 装置， 包括： 承 载机台， 承 载机台用于运输显示基 板； 液气刀组件， 设置在承 载机台上方， 用于驱除 或隔离附着 于显示基板上的两种不同介质； 液气 刀组件包括双刀口液气刀， 双刀口液气刀包括第 一液气刀口和第二液气刀口； 第一液气刀口的出 气方向与显示基板的传输方向反向相交， 第二液 气刀口的出气方向与显示基板的传输方向正向 相交； 采用双刀口液气刀组件能够在精简湿法制 程基板处理装置的长度和结构基础上， 实现良好 的药液和水洗液的隔绝， 实现药液的回收利用， 降低成本同时提升产品良率。 权利要求书2页 说明书7页 附图4页 CN 115254789 A 2022.11.01 CN 115254789 A 1.一种湿法制程基板处 理装置， 其特 征在于， 包括： 承载机台， 所述承载机台用于运输 显示基板； 液气刀组件， 设置在所述承载机台上方， 用于驱除或隔离附着于所述显示基板上的两 种不同介质； 所述液气刀组件包括双刀口液气刀， 所述双刀口液气刀包括第 一液气刀口和第 二液气 刀口； 所述第一液气刀口的出气方向与所述显示基板的传输方向反向相交， 所述第二液气 刀口的出气方向与所述显示基板的传输方向正向相交。 2.根据权利要求1所述的湿法制程基板处 理装置， 其特 征在于， 包括： 沿所述显示基板传输方向上设置的药液单元和水洗单元， 所述液气刀组件设置在所述 药液单元和所述水洗单 元的临界区域； 所述液气刀组件包括一体连接的第 一液气刀 子部和第 二液气刀 子部， 所述第 一液气刀 子部包括所述第一液气刀口， 所述第二液气刀子 部包括所述第二液气刀口； 所述第一液气刀口的出气方向倾斜朝向所述药液单元一侧， 所述第 二液气刀口的出气 方向倾斜朝向所述水洗单 元的一侧。 3.根据权利要求2所述的湿法制程基板处 理装置， 其特 征在于， 所述第一液气刀 子部和所述第 二液气刀 子部之间气体流通通道； 所述气体流通通道包 括排气缓冲腔， 所述排气缓冲腔用于排出所述双刀口液气刀与所述显示基板之 间产生的逆 向气流。 4.根据权利要求3所述的湿法制程基板处 理装置， 其特 征在于， 所述第一液气刀 子部包括第 一液气刀 框和由所述第 一液气刀 框围成的第 一液气刀腔， 所述第一液气刀腔靠近所述承载机台的底端包括所述第一液气刀口； 所述第二液气刀子部 包括第二液气刀框和由所述第二液气刀框围成的第二液气刀腔， 所述第二液气刀腔靠近所 述承载机台的底端包括所述第二液气刀口； 所述第一液气刀腔和所述第 二液气刀腔的顶端分别与进气管连通， 所述第 一液气刀腔 和所述第二液气刀腔用于限定内部气体的气流形态。 5.根据权利要求1所述的湿法制程基板处 理装置， 其特 征在于， 所述液气刀组件包括支撑杆， 所述支撑杆与所述双刀口液气刀活动连接， 所述支撑杆 用于固定所述双刀口液气刀与所述承载机台的相对位置 。 6.根据权利要求1所述的湿法制程基板处理装置， 其特征在于， 所述承载机 台包括由多 个滚轮组成的第一滚轮组， 所述第一滚轮组形成承载 所述显示基板的平台。 7.根据权利要求6所述的湿法制程基板处理装置， 其特征在于， 包括残液分流装置， 所 述残液分流装置位于所述第一滚轮组的下方、 并对应所述液气刀组件设置； 所述残液分流 装置包括相交的第一导流面和 第二导流面， 所述第一导流面倾斜向下朝向所述药液单元一 侧， 所述第二 导流面倾斜向下朝向所述水洗单 元一侧。 8.根据权利要求7所述的湿法制程基板处理装置， 其特征在于， 包括第 一排液管和第 二 排液管， 所述第一排液管用于排出所述水洗单元一侧的水洗残液， 所述第二排液管用于排 出所述药液单元一侧的药 液残液。 9.根据权利要求2所述的湿法制程基板处理装置， 其特征在于， 包括风干气刀， 沿所显 示基板的传输方向上， 所述风干气刀位于所述水洗单元远离所述液气刀组件的一侧， 所述权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 115254789 A 2风干气刀用于 干燥水洗后的所述显示基板 。 10.根据权利要求2所述的任意一项湿法制程基板处理装置， 其特征在于， 包括防护气 刀， 沿所显示基板的传输方向上， 所述防护气刀位于所述药液单元远离所述液气刀组件的 一侧， 所述防护气刀用于隔绝外 部水汽进入所述药 液单元。 11.根据权利要求2所述的湿法制程基板处理装置， 其特征在于， 包括药液供槽、 水洗液 供槽和气体储槽， 所述药液供槽与所述药液单元连通， 所述水洗液供槽与所述水洗单元连 通， 所述气体储槽与所述液气刀组件的进气口连通。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 115254789 A 3